E' stata sviluppata una nuova tecnica per eliminare l'ossigeno dalla silice. Tale processo potrebbe così rendere più economico il silicio, materiale fondamentale per la tecnologia e aprire nuove strade per la progettazione dei microprocessori.
[ZEUS News - www.zeusnews.it - 26-06-2003]
La Tecnica, sviluppata da Toshiyuki Nohira e colleghi dell'Università di Kyoto, in Giappone, sfrutta l'elettricità per rimuovere ossigeno dal naturale ossido di silicio, la silice, consentendo di ottenere dai minerali di silice, come i quarzi, grandi quantità di silicio.
La scoperta di questo procedimento è molto importante se si pensa che un chip per computer è fatto di una serie di strutture in silicio incassate in strati di silice che, a differenza delle prime, non conducono elettricità. Così se attualmente è possibile convertire il silicio in silice, non è possibile il contrario senza la fusione a circa 1700 °C, cosa che se succedesse, invece, renderebbe la manifattura dei chip maggiormente flessibile.
La tecnica di Nohira ha permesso la conversione della silice in silicio senza fusione immergendo una lastra di quarzo in un bagno di sali di cloruro di calcio fusi a 850 °C in cui è stata poi fatta passare della corrente elettrica.
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